| موق: | 1 واحد |
| قیمت: | Negotation |
| بسته بندی استاندارد: | بسته بندی شده توسط کیس چوبی |
| روش پرداخت: | T/T، وسترن یونیون |
| ظرفیت عرضه: | 1000 واحد در ماه |
پوشش نانو ذرات اتمیزه شده با استفاده از سلول های فتوولتائیک لایه نازک اولتراسونیک
توضیحات:
پوشش نانو ذرات اتمیزه شده با استفاده از سلول های فتوولتائیک لایه نازک اولتراسونیک یک فرآیند پیشرفته است که از فناوری اولتراسونیک برای پوشش دقیق لایه های کلیدی سلول های فتوولتائیک لایه نازک استفاده می کند. این فرآیند مزایای قابل توجهی در بهبود راندمان سلول و راندمان تولید دارد و یک پشتیبانی فنی کلیدی برای ارتقای فرآیند صنعتی شدن سلول های فتوولتائیک لایه نازک است.
دستگاه پوشش نانو ذرات اتمیزه شده با استفاده از سلول های فتوولتائیک لایه نازک اولتراسونیک FUNSONIC FS620 عمدتاً برای آزمایش های کیفی در آزمایشگاه های علمی، تولید دسته ای کوچک و متوسط و مناطق متوسط استفاده می شود. کل دستگاه دارای ساختاری ساده و ظریف است که از ماژول های حرکتی دقیق سه محوره XYZ استفاده می کند و مجهز به سیستم کنترل اختصاصی پاشش اولتراسونیک توسعه یافته توسط FUNSONIC است که یک سیستم ویرایش مسیر جامع با عملکردهای منطبق را به دست می آورد و پاشش یکنواخت و دقیقی را محقق می سازد.
پارامترها:
![]()
ویژگی ها:
1. پوشش یکنواخت بالا
مقدار پاشش و محدوده پوشش را به دقت کنترل کنید
اطمینان از پوشش یکنواخت و متراکم لایه های نازک کلیدی مانند لایه جذب نور و لایه الکترود
2. ذرات اتمیزه شده در مقیاس نانو
پوشش به ذرات بسیار ریز در مقیاس نانو اتمیزه می شود
بهبود تراکم و خواص الکتریکی پوشش و کاهش اتلاف مواد
3. پوشش در دمای پایین
استفاده از فناوری پاشش اولتراسونیک در دمای پایین
جلوگیری از آسیب فیلم و تخریب عملکرد باتری ناشی از دمای بالا
4. راندمان تولید بالا
5. حفاظت از محیط زیست و صرفه جویی در انرژی
6. مناسب برای فناوری های مختلف فتوولتائیک
می تواند برای پوشش سلول های فتوولتائیک لایه نازک مانند a-Si، CIGS، CdTe و غیره استفاده شود
نیازهای تولید مسیرهای فناوری فتوولتائیک مختلف را برآورده کنید
![]()
![]()
![]()
پوشش نانو ذرات اتمیزه شده با استفاده از سلول های فتوولتائیک لایه نازک اولتراسونیک
![]()
![]()
|
|
| موق: | 1 واحد |
| قیمت: | Negotation |
| بسته بندی استاندارد: | بسته بندی شده توسط کیس چوبی |
| روش پرداخت: | T/T، وسترن یونیون |
| ظرفیت عرضه: | 1000 واحد در ماه |
پوشش نانو ذرات اتمیزه شده با استفاده از سلول های فتوولتائیک لایه نازک اولتراسونیک
توضیحات:
پوشش نانو ذرات اتمیزه شده با استفاده از سلول های فتوولتائیک لایه نازک اولتراسونیک یک فرآیند پیشرفته است که از فناوری اولتراسونیک برای پوشش دقیق لایه های کلیدی سلول های فتوولتائیک لایه نازک استفاده می کند. این فرآیند مزایای قابل توجهی در بهبود راندمان سلول و راندمان تولید دارد و یک پشتیبانی فنی کلیدی برای ارتقای فرآیند صنعتی شدن سلول های فتوولتائیک لایه نازک است.
دستگاه پوشش نانو ذرات اتمیزه شده با استفاده از سلول های فتوولتائیک لایه نازک اولتراسونیک FUNSONIC FS620 عمدتاً برای آزمایش های کیفی در آزمایشگاه های علمی، تولید دسته ای کوچک و متوسط و مناطق متوسط استفاده می شود. کل دستگاه دارای ساختاری ساده و ظریف است که از ماژول های حرکتی دقیق سه محوره XYZ استفاده می کند و مجهز به سیستم کنترل اختصاصی پاشش اولتراسونیک توسعه یافته توسط FUNSONIC است که یک سیستم ویرایش مسیر جامع با عملکردهای منطبق را به دست می آورد و پاشش یکنواخت و دقیقی را محقق می سازد.
پارامترها:
![]()
ویژگی ها:
1. پوشش یکنواخت بالا
مقدار پاشش و محدوده پوشش را به دقت کنترل کنید
اطمینان از پوشش یکنواخت و متراکم لایه های نازک کلیدی مانند لایه جذب نور و لایه الکترود
2. ذرات اتمیزه شده در مقیاس نانو
پوشش به ذرات بسیار ریز در مقیاس نانو اتمیزه می شود
بهبود تراکم و خواص الکتریکی پوشش و کاهش اتلاف مواد
3. پوشش در دمای پایین
استفاده از فناوری پاشش اولتراسونیک در دمای پایین
جلوگیری از آسیب فیلم و تخریب عملکرد باتری ناشی از دمای بالا
4. راندمان تولید بالا
5. حفاظت از محیط زیست و صرفه جویی در انرژی
6. مناسب برای فناوری های مختلف فتوولتائیک
می تواند برای پوشش سلول های فتوولتائیک لایه نازک مانند a-Si، CIGS، CdTe و غیره استفاده شود
نیازهای تولید مسیرهای فناوری فتوولتائیک مختلف را برآورده کنید
![]()
![]()
![]()
پوشش نانو ذرات اتمیزه شده با استفاده از سلول های فتوولتائیک لایه نازک اولتراسونیک
![]()
![]()